磁控溅射沉积透明导电薄膜的结构及光电特性研究

摘要：

采用射频磁控溅射工艺、以氧化锌铝陶瓷靶为靶材制备透明导电ZAO薄膜,系统研究了各工艺参数,如工作气压、温度、射频功率和退火条件对其结构和光电特性的影响.在纯氩气中且补底温度为300℃时制备的ZAO薄膜经热处理后电阻率降至8.7×10-4Ωcm,可见光透过率在85%以上.X射线衍射谱扫描电镜照片表明ZAO晶粒具有六角纤锌矿结构且呈c轴择优取向,晶粒垂直于衬底方向柱状生长.

关键词：射频磁控溅射、ZAO薄膜、结构、光电特性

所属期刊栏目：25

分类号：TG1(金属学与热处理)

在线出版日期：2003-10-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：16-20