基体偏压对反应共溅射TiN/Ni纳米复合膜力学性能的影响

摘要：

以高纯Ti和Ni为靶材,在不同偏压下利用反应磁控共溅射法制备了TiN/Ni纳米复合膜,采用X射线衍射、纳米压痕和划痕试验研究了偏压对复合膜相结构和力学性能的影响.结果显示,反应共溅射TiN/Ni纳米复合膜由fcc-TiN和Ni组成,其择优取向与偏压有关.随负偏压增加,复合膜晶粒尺寸逐渐减小,硬度、弹性模量、H/E、H3/E2和膜基结合力则先增加后下降.在偏压为-80 V时所沉积的复合膜具有最好的力学性能,其硬度为(19.2±0.4)GPa、弹性模量为(311.0±5.0) GPa、H/E为0.062、H3/E2为0.073GPa,膜基结合力为45 N.

关键词：TiN/Ni、纳米复合膜、反应磁控共溅射、负偏压、力学性能

所属期刊栏目：29

分类号：TB79;TB34(真空技术)

资助基金：国家自然科学基金资助项目51171118;辽宁省高等学校优秀人才支持计划LR2013054

在线出版日期：2018-04-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：431-434