多循环快速热退火诱导普通玻璃衬底非晶硅薄膜晶化

摘要：

介绍一种使用快速热退火设备,经多次循环退火诱导,在普通玻璃衬底上生长非晶硅薄膜晶化的实验方法.利用拉曼(Raman)光谱、原子力显微镜(atomic force microscope,AFM)、紫外可见分光光度计(UV-VIS spectrophotometer)和霍尔(Hall)测试系统对薄膜的结构、形貌及电子迁移率进行测试.结果表明,当退火温度达到680℃时,薄膜开始出现晶化现象；随着快速热退火次数的增加,拉曼光谱在500 cm-1处测得多晶硅特征峰；在循环退火5次后,其最佳晶化率达到71.9％,光学带隙下降,晶粒增大,载流子迁移率提高.

关键词：多循环快速热退火、非晶硅、晶化

所属期刊栏目：18

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：上海市重点学科建设资助项目S30107

在线出版日期：2012-09-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：327-330