双折射型晶体Interleaver公差分析的优化设计

摘要：

该文提出用于16波分双折射型晶体interleaver公差分析的优化设计方法.在此种器件加工过程中,对晶体的长度以及方位角都要给定一个合理的公差范围.基于这个要求,作者采用蒙特卡洛(Monte Carlo)方法,编制了一整套计算机程序去仿真在晶体加工过程中尺寸公差对器件性能的影响,并通过仿真找出最佳晶体长度和方位角的公差范围.仿真结果表明,当晶体长度和方位角公差分别为1.0μm和0.5°时可实现优化设计.

关键词：公差分析、蒙特卡洛方法、梳状滤波器、双折射晶体

所属期刊栏目：10

分类号：TN929.11

资助基金：上海市学科建设项目2001-44

在线出版日期：2004-12-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：450-454