10.3969/j.issn.1007-2861.2003.04.006
铜、钴在Pt(111)面上电结晶过程的现场ECSTM研究
利用电化学扫描隧道显微镜(ECSTM)现场观察Co、Cu在铂单晶(111)面上的电结晶成膜过程.结果表明:Cu在铂单晶(111)面上的电结晶过程在欠电位下为层状平面生长,而本体沉积为三维岛状生长;Co在铂单晶(111)面上的电结晶过程无论是低过电位还是高过电位都呈三维岛状方式生长;Co、Cu电结晶过程均随过电位升高,成核数目增加.
电结晶、ECSTM、铜沉积层、钴沉积层
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TG115.21;TG146(金属学与热处理)
国家自然科学基金20271032;上海市教委资助项目02AQ83
2003-09-12(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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303-306