金刚石薄膜在Si(100)上的偏压成核与织构生长的研究

摘要：

通过微波等离子化学气相沉积法(MPCVD)在镜面抛光Si(100)上生长出高品质的具有(100)织构的金刚石薄膜.列举了最佳成核与生长条件.SEM和Raman光谱对所得样品进行了表征,并对偏压的影响及成核生长机制进行了讨论.

关键词：金刚石薄膜、偏压成核、织构生长

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分类号：O484.1(固体物理学)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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