Er/Yb/Al掺杂ZnO薄膜的结构与形貌研究

摘要：

采用射频磁控溅射技术在室温下Si衬底上制备了ZnO薄膜和Er/Yb/Al掺杂的ZnO薄膜.通过对XRD的结构分析表明:未掺杂ZnO薄膜沿c取向性生长,掺杂ZnO薄膜偏离了正常生长,变为(102)取向性生长的纳米多晶结构；Er/Yb/Al掺杂的ZnO薄膜的晶粒尺寸随着Er元素含量的增多而减小.经AFM对其形貌分析表明:Er3+、yb3+、Al3+的掺入引起了ZnO薄膜晶格场变化,使薄膜表面粗糙度变大.

关键词：射频磁控溅射、ZnO薄膜、掺杂、结构、形貌

所属期刊栏目：26

分类号：O484.1(固体物理学)

资助基金：住房和城乡建设部研究开发项目2010-K4-15;山东建筑大学博士基金010180921

在线出版日期：2012-04-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：425-428,446