10.3969/j.issn.1673-7644.2011.05.004
Er/Yb/Al掺杂ZnO薄膜的结构与形貌研究
采用射频磁控溅射技术在室温下Si衬底上制备了ZnO薄膜和Er/Yb/Al掺杂的ZnO薄膜.通过对XRD的结构分析表明:未掺杂ZnO薄膜沿c取向性生长,掺杂ZnO薄膜偏离了正常生长,变为(102)取向性生长的纳米多晶结构;Er/Yb/Al掺杂的ZnO薄膜的晶粒尺寸随着Er元素含量的增多而减小.经AFM对其形貌分析表明:Er3+、yb3+、Al3+的掺入引起了ZnO薄膜晶格场变化,使薄膜表面粗糙度变大.
射频磁控溅射、ZnO薄膜、掺杂、结构、形貌
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O484.1(固体物理学)
住房和城乡建设部研究开发项目2010-K4-15;山东建筑大学博士基金010180921
2012-04-20(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
425-428,446