光学邻近效应修正技术发展综述及思考

摘要：

光学邻近修正技术是纳米级晶圆制造的核心,随着晶圆制造工艺上的逻辑器件技术节点的不断缩小,导致光学邻近修正越来越困难.本文对近年来晶圆制造的光学邻近效应技术的发展进行综述,并对逻辑器件技术节点到20nm以下情况下的先进光刻工艺进行深入思考,提出应强化光学邻近修正模型研发在先进光刻工艺研发中的核心地位,加强光学邻近修正技术的研发.

关键词：光学邻近效应修正(OPC)、先进光刻、OPC经验学习

在线出版日期：2018-06-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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