10.3969/j.issn.1006-3102.2011.28.052
紫外激光器增透膜的制备
依据薄膜光学的基本理论,选取Al2O3与MgF2作为薄膜材料,在JGS1基底上,采用离子源辅助沉积的真空镀膜方法,制备出工作波段在240nm~280nm间,具有高透射率大于99.5%的光学薄膜。通过调整工艺参数和膜系设计,改善了薄膜的激光损伤阈值。
光学薄膜、紫外增透膜、离子辅助沉积
O484.41(固体物理学)
2012-04-21(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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