超薄MoN扩散阻挡层的扩散阻挡性能分析

摘要：

采用磁控溅射法，制备了超薄MoN扩散阻挡层，并对Cu／MoN／Si体系进行真空退火。用四点探针（FPP）、X射线衍射（XRD）、场发射扫描电子显微镜（FESEM）进行薄膜电性能和微结构表征。分析结果表明，MoN作为Cu扩散阻挡层结构具有良好的热稳定性，失效温度达到600℃，明显优于Mo扩散阻挡层。

关键词：磁控溅射、MoN、扩散阻挡层、热稳定性

所属期刊栏目：25

分类号：TQ153.6

资助基金：国家自然科学基金青年基金项目51201111;材料腐蚀与防护四川省重点实验室开放基金项目2011CL15;四川理工学院人才引进基金项目2011RC05、2011RC03;四川省教育厅项目12ZB285

在线出版日期：2012-12-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：15-18