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10.3969/j.issn.1673-159X.2001.04.023

激光诱导等离子体淀积薄膜过程的研究

引用
用激波理论推出了激光诱导等离子体化学气相淀积过程中两个重要参量薄膜面积、膜淀积速率的表达式.分析了激光强度、气体压强、基片温度对淀积过程的影响,为最佳淀积条件的选取提供了理论依据.

等离子体、气相淀积、薄膜面积、淀积速率

20

TH7;O64

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共2页

66-67

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四川工业学院学报

1673-159X

51-1686/N

20

2001,20(4)

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