10.3969/j.issn.1673-159X.2001.04.023
激光诱导等离子体淀积薄膜过程的研究
用激波理论推出了激光诱导等离子体化学气相淀积过程中两个重要参量薄膜面积、膜淀积速率的表达式.分析了激光强度、气体压强、基片温度对淀积过程的影响,为最佳淀积条件的选取提供了理论依据.
等离子体、气相淀积、薄膜面积、淀积速率
20
TH7;O64
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共2页
66-67
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10.3969/j.issn.1673-159X.2001.04.023
等离子体、气相淀积、薄膜面积、淀积速率
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TH7;O64
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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