原子内壳层电离截面研究中薄靶厚度的卢瑟福背散射分析
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3969/j.issn.0490-6756.2004.06.027

原子内壳层电离截面研究中薄靶厚度的卢瑟福背散射分析

引用
作者使用241Amα标准源与卢瑟福背散射相结合的方法,对四川大学原子核科学技术研究所的2.5MeV静电加速器进行了能量刻度,并利用卢瑟福背散射方法测量了一系列Al衬底金属薄靶的厚度,所测结果与称重法进行了比较.作者将卢瑟福背散射方法所测厚度值运用到电子碰撞引起原子内壳层电离截面的测量工作中,取得了满意的结果.

卢瑟福背散射(RBS)、能量刻度、电子碰撞、原子内壳层电离截面

41

O562.4(分子物理学、原子物理学)

国家自然科学基金委员会-中国工程物理研究院联合资助项目10276029;高等学校博士学科点专项科研项目20020610019

2005-01-27(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

1221-1224

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

四川大学学报(自然科学版)

0490-6756

51-1595/N

41

2004,41(6)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn