10.3969/j.issn.0490-6756.2003.01.021
He+注入诱生微孔对金吸除作用的研究
高注量的氦注入硅中并经热处理所形成的微孔,对金属原子的吸除作用已为大量的研究所证实.作者报道了该技术应用于平面二极管中对金杂质吸除的研究.其结果表明,在粗糙研磨表面上形成的氦诱生微孔,同样具有良好的吸除效果.
微孔、金、吸除、反向漏电流
40
O571.33;O474(原子核物理学、高能物理学)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
86-89
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10.3969/j.issn.0490-6756.2003.01.021
微孔、金、吸除、反向漏电流
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O571.33;O474(原子核物理学、高能物理学)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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