静电自组装法制备SiO2光学增透膜

摘要：

为了进一步提高低折射率光学器件的可见光透过率,用静电自组装(ESAM)法在玻璃基片(折射率1.45)表面组装了多孔SiO2增透膜.以NH3·H2O催化和HCl与NH3·H2O分步催化分别制备了胶粒带负电荷的SiO2溶胶.用带正电荷的聚电解质聚二烯丙基二甲基氯化铵(PDDA)溶液与SiO2溶胶组装了PDDA/SiO2复合薄膜.然后进行热处理,制备了多孔SiO2薄膜.结果显示,经520 ℃热处理后,两种薄膜可见光峰值透过率增加,峰值波长由560 nm向短波移到520 nm,耐机械擦伤强度增大.NH3·H2O催化制备的薄膜透过率相对较高,峰值由98.2%达到99.2%,但耐刮伤能力相对较差.

关键词：静电自组装、SiO2、光学增透膜、热处理

所属期刊栏目：37

分类号：TB443(工业通用技术与设备)

资助基金：国防科技应用基础研究基金K12030611091;西南科技大学校科研和教改项目ZK043073

在线出版日期：2005-06-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：90-93