磁控溅射快速沉积钽涂层的组织及性能

摘要：

探索提高磁控溅射钽涂层沉积速率的方法,研究了沉积工艺如靶与基材相对关系、靶基间距、基体温度、沉积电流等参数对钽涂层的沉积速率、组织和性能的影响.结果表明靶基间距降低到20 mm,二者正对时沉积速率最高,达20 μm/h,能制备出20 μm厚钽涂层;基材温度为室温时,获得a相和β相组成的双相结构,提高基材温度到200℃时,可获得α相(脆性小)为主的单相组织;磁控溅射沉积的厚钽涂层内产生压应力,最大达621MPa,厚钽涂层具有较高的显微硬度,为不锈钢基体的4倍.

关键词：磁控溅射、沉积速率、厚钽涂层、组织、应力

所属期刊栏目：39

分类号：TJ04(一般性问题)

在线出版日期：2019-01-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：156-160