10.3969/j.issn.1006-0707.2011.04.035
光学微腔品质因数的测试
对Q值的影响因素进行了分析,得出耦合系统的3个关键耦合状态,欠耦合、临近耦合和过耦合;通过拉制纳米光纤锥和搭建耦合系统对微盘腔进行了测试,得到Q值为3.2×105.
微盘腔、品质因数、耦合系统
32
TN365(半导体技术)
国家自然科学基金资助项目60778029
2011-08-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
113-114,123
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10.3969/j.issn.1006-0707.2011.04.035
微盘腔、品质因数、耦合系统
32
TN365(半导体技术)
国家自然科学基金资助项目60778029
2011-08-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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113-114,123
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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