日光温室小型西瓜一绳双蔓高产栽培技术

摘要：

应用一绳双蔓栽培技术,可有效提高种植密度,提高日光温室光热资源利用率.在行距70 cm情况下,一绳双蔓栽培较双绳双蔓栽培株距由50 cm降至30 cm,667 m2种植密度由2 380株提高到3 170株.每667 m2可多定植790株,单瓜质量在1.6 kg左右,667 m2可增加西瓜产量1 200kg以上,增收6 000元左右.

关键词：日光温室、小型西瓜、一绳双蔓、高产

分类号：S65;S62

在线出版日期：2014-07-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：38-39