PVD镀Al膜工艺研究

摘要：

介绍PVD的原理,描述PVD设备的结构原理和性能参数,通过实验研究了PVD镀Al膜的工艺,分析了磁控溅射中溅射时间、溅射功率、靶基距、溅射温度和靶材对最终Al膜质量的影响,为实际应用中参数设置和工艺改进提供了参考.

关键词：PVD、磁控溅射、Al膜、靶材

分类号：TG178(金属学与热处理)

在线出版日期：2020-03-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：25-27