调制周期对TaN/TiSiN纳米多层膜微观结构与性能影响

摘要：

使用磁控溅射仪沉积一系列不同调制周期的TaN/TiSiN纳米多层膜.采用X射线衍射仪(XRD)、显微硬度计、摩擦磨损试验机分析与表征纳米多层膜微观结构和性能,研究调制周期对TaN/TiSiN纳米多层膜的微观结构、力学性能和摩擦学性能的影响.结果表明,TaN/TiSiN纳米多层膜均为面心立方结构,在(111)晶面和(200)晶面呈现择优取向.当调制周期为25nm时,TaN/TiSiN纳米多层膜硬度最大值为30.9GPa,摩擦系数与磨损量最小.TaN/TiSiN纳米多层膜的位错穿过TaN层与TiSiN层界面时将受到多层膜界面对其施加的镜像力作用,阻碍位错的运动,引起薄膜的强化.

关键词：TaN/TiSiN、共格外延生长、硬度、耐磨性

所属期刊栏目：11

分类号：TG174.4(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金项目;北京市教委-市自然科学基金联合资助项目;北方工业大学毓优团队和学生科技活动

在线出版日期：2020-04-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：25-30