N2流量对磁控溅射TiAlN薄膜耐腐蚀性能的影响

摘要：

采用非平衡磁控溅射技术在Q235钢和单晶硅基片上制备了TiAlN薄膜,并利用场发射扫描电镜(FESEM)、纳米力学探针、划痕测试仪对薄膜的微观组织结构和力学性性能进行研究;采用盐雾试验和电化学极化测试技术研究了薄膜在含Cl-环境中的腐蚀行为与电化学特性.结果表明,随着N2流量的升高,TiAlN薄膜的硬度和弹性模量先升高后迅速降低,当N2流量为10sccm时,薄膜具有最高的硬度和结合力,分别为30.7GPa和44.2N.盐雾试验240h后,N2流量为10sccm时的TiAlN薄膜表面腐蚀最轻微,表现出了良好的抗盐雾腐蚀性能;电化学测试结果表明,在3.5%NaCl溶液中,N2流量为10sccm时TiAlN薄膜腐蚀电流密度最小,仅为1.38×10-4mA·cm-2,,约为N2流量为16sccm时薄膜的1/4,表现出优异的耐腐蚀性能.

关键词：磁控溅射、TiAlN薄膜、显微组织、盐雾试验、电化学特性

所属期刊栏目：10

分类号：TG174.4(金属学与热处理)

在线出版日期：2018-08-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：69-74