10.3969/j.jssn.1674-7127.2014.03.005
超低压等离子喷涂YSZ涂层显微组织结构研究
采用超低压等离子喷涂技术(Plasma Spray-Physical Vapor Deposition,PS-PVD)制备了YSZ涂层,对涂层的显微组织结构进行了分析,并对比了粘结层表面不同预处理对于YSZ涂层生长趋势的影响规律.研究结果表明:MCrAlY涂层致密,孔隙率为1.5%,结合强度达83.2MPa; YSZ涂层呈现明显的柱状晶结构.粘结层表面粗糙度对柱状晶生长方向影响较大,表面粗糙度越小,柱状晶生长方向越趋于一致,基本沿法向生长.在超低压状态下,涂层不存在“遮蔽效应”,可实现异型面涂层制备.
超低压等离子喷涂、柱状晶结构、YSZ涂层
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TG174.4(金属学与热处理)
2014-10-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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