氧化铝陶瓷表面高度分布状态随抛光时间的变化规律与机理研究

摘要：

利用化学机械抛光对氧化铝陶瓷进行加工,结合表面算术平均高度Sa和均方根高度Sq,研究偏斜度Ssk和陡度Sku随抛光时间的变化规律,分析光滑表面形成机理.结果 表明:随着抛光时间的延长,Sa和Sq呈先快速下降后缓慢下降的规律;Ssk呈先下降后上升再波动的规律;Sku呈先上升后下降再上升的规律.塑性去除、晶粒断裂和晶粒脱落三种作用机理是表面高度分布变化的本质,其中塑性去除作用贯穿整个抛光过程,有利于形成光滑表面;而晶粒断裂和晶粒脱落则主要作用于较光滑表面,这也是Ssk和Sku在抛光后期呈波动变化的主要原因.

关键词：氧化铝陶瓷、化学机械抛光、表高度分布、抛光机理

所属期刊栏目：51

分类号：TG175;TG356.2+8(金属学与热处理)

资助基金：四川省应用基础研究项目;中国工程物理研究院院长基金项目

在线出版日期：2022-03-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：91-94,99