溅射功率对Fe81Ga19薄膜结构和磁性的影响

摘要：

采用射频磁控溅射技术在SrTiO3(100)衬底上制备Fe81Ga19薄膜.利用XRD、AFM和VSM表征了Fe81Ga19薄膜的生长取向、内应力、表面形貌和磁性,研究了不同溅射功率(60～100 W)对Fe81Ga19薄膜结构和磁性能的影响.结果表明,所有薄膜主要以A2相和L12相存在.随着溅射功率的增大,A2相衍射峰的强度缓慢降低,内应力显著增加,表面粗糙度降低,薄膜的剩余磁化强度和饱和磁化强度明显减小,而矫顽力保持不变,都为50 Oe.

关键词：Fe81Ga19薄膜、RF磁控溅射、溅射功率、微观结构、磁性

所属期刊栏目：46

分类号：TB34(工程材料学)

资助基金：国家自然科学基金11079022

在线出版日期：2018-07-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：149-151,154