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10.14158/j.cnki.1001-3814.2017.10.050

GH586等离子喷涂CoCrAlYTaSi涂层的高温氧化性能研究

引用
采用等离子喷涂技术在GH586 基体上制备了CoCrAlYTaSi 涂层,用扫描电镜研究了该涂层的微观结构.并在 1100℃下研究了该涂层的高温氧化性.结果表明:在涂层表面,Al 元素优先在某些区域氧化成α-Al2O3并向水平和垂直方向生长成岛状.随后Cr 元素富集并开始氧化,最终在表面生成一层致密的氧化膜.在涂层中部,Al 元素在涂层优先氧化,形成黑色条带状物质,然后进入均匀氧化阶段.在涂层结合面上生成了一层以Al2O3和TiO2为主的TGO 层.

等离子喷涂、CoCrAlYTaSi、高温氧化性、热生长氧化物

46

TG174(金属学与热处理)

2018-07-30(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

188-191

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1001-3814

61-1133/TG

46

2017,46(10)

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