气相沉积技术制备6.5wt％Si高硅钢的研究进展

摘要：

综述了化学气相沉积法(CVD)、物理气相沉积法(PVD)和等离子体化学气相沉积法(PCVD)三类气相沉积技术制备高硅钢的工艺和路线,并对其前景进行了展望.

关键词：6.5、Si高硅钢、气相沉积技术、制备工艺

所属期刊栏目：44

分类号：TG174(金属学与热处理)

资助基金：湖北省自然科学基金;湖北省教育厅科学技术研究重大项目

在线出版日期：2015-12-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：7-10,18