预处理工艺对TC4合金铜镀层结构和镀层结合力的影响

摘要：

采用硫酸铜无氰镀铜技术在TC4钛合金表面制备铜镀层,研究了预处理(包括活化和预镀)对镀层结构、成分及镀层结合力的影响,分析了镀层形成过程及断裂特征,讨论了镀层断裂机理.结果表明:活化形成了氢化物转化膜,产生封闭效应,抑制了镀层形成过程中氧渗透和扩散,膜层均匀致密,镀层结合力较未活化处理明显提高.活化预镀Ni后形成了Cu/Ni/Ti多层结构,Ti/Ni膜层间易于形成冶金结合,增加了界面稳定性,所得镀层结合力较好.分析表明:活化预镀处理后,断裂产生于Cu/Ni界面,表明经活化后钛合金基体与镀层结合力可靠.

关键词：TC4钛合金、镀铜、镀层结合力、预处理工艺

所属期刊栏目：43

分类号：TG174(金属学与热处理)

在线出版日期：2014-08-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：173-176,180