基于金属锡掺杂浓度变化的光学性能可调谐ITO薄膜制备研究

摘要：

本文通过电子束蒸发技术制备了金属锡掺杂浓度不同的一系列ITO薄膜.采用X射线衍射仪、原子力显微镜、紫外-可见光-近红外分光光度计、四探针测电阻仪和Z扫描系统分别对ITO薄膜的物相结构、微观形貌、光学吸收、方块电阻和非线性光学性能进行测试和表征.结果表明,随着金属锡掺杂浓度由 10%增加到 30%:ITO薄膜的结晶质量增加;薄膜表面粗糙度增加,晶粒尺寸逐渐增大;等离子体吸收增强,且吸收峰的位置发生红移,光学带隙变窄;薄膜的方块电阻不断减小;非线性吸收系数逐渐增加,绝对值最大可以增至2.59×10-7 cm/W.时域有限差分拟合结果表明金属锡掺杂浓度不同的ITO薄膜电场强度变化规律与实验结果相一致.

关键词：氧化铟锡、局部表面等离子体共振、非线性光学响应、Z扫描、增强电场、掺杂、电子束蒸发

所属期刊栏目：52

分类号：O484.1;O437(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金;国家自然科学基金

在线出版日期：2023-09-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：1617-1623