低成本氧化铟锡基底的制备及其SERS活性

摘要：

本文采用脉冲激光沉积和真空退火的方法在铝箔上制备氧化铟锡(indium tin oxide,ITO)表面增强拉曼散射(surface-enhanced Raman scattering,SERS)活性基底,并研究了ITO基底的SERS特性.沉积了700、1000、1300、1600、2000五组脉冲数的基底,测量结果显示薄膜厚度与脉冲数接近线性关系,当ITO薄膜厚度为60.80 nm(脉冲数为1300)时,拉曼信号的增强程度达到最大值,其拉曼强度是Au基底的2～3倍.研究表明,真空退火能够显著提升ITO基底的拉曼增强效果,不同厚度的ITO薄膜基底均具有明显的SERS增强效果,可以通过控制薄膜厚度对ITO基底进行SERS调控.这些研究结果可为后续ITO材料SERS研究及应用提供参考依据.

关键词：氧化铟锡;脉冲激光沉积;真空退火;脉冲数;表面增强拉曼散射;表面等离激元;低成本

所属期刊栏目：51

分类号：O657.37(分析化学)

资助基金：国家自然科学基金;贵州省科学技术基金项目;贵州省教育厅职业教育科研项目

在线出版日期：2022-03-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：263-270