圆筒式柱面磁控溅射靶的磁场设计与仿真研究

摘要：

为探究一种可实现向心溅射的圆筒式柱面磁控阴极靶,需要对靶装置内的磁场分布进行研究,进一步讨论靶结构参数对其磁场分布的影响规律.本文根据磁控靶的结构与工作原理,利用COMSOL Multiphysics有限元分析软件中AC/DC接口,对靶进行三维模型构建、划分网格和仿真计算.通过改变靶内磁体形状尺寸、磁轭形状以及结构排布,对靶面磁场的分布进行规律探究.最终确定新型圆筒式柱面磁控溅射阴极靶内的磁场结构参数,结果表明结构靶面磁场分布均匀且大小满足溅射要求的磁感应强度(20～50 mT),平行靶面均匀磁场区域达35％ ～40％左右.通过这类靶磁场结构的研究,为设计优化磁控阴极靶提供依据.

关键词：磁控溅射;磁场分布;圆柱靶;有限元分析;COMSOL;结构参数;真空镀膜;设计与仿真

所属期刊栏目：50

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

资助基金：开放基金ZSKJ202002

在线出版日期：2021-10-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：1765-1773