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10.3969/j.issn.1000-985X.2021.08.013

(Ti/ZnO)N成分调制纳米多层膜的结构与透光导电性研究

引用
采用射频(RF)和单极中频直流脉冲磁控溅射方法,在玻璃基板上制备了(Ti/ZnO)N成分调制纳米多层膜,并研究了调制周期数对其结构及透光导电性能的影响.通过X射线衍射、拉曼光谱、原子力显微镜、紫外可见吸收光谱以及霍尔效应测试结果表明:(Ti/ZnO)N成分调制纳米多层膜以(002)取向的纤锌矿型ZnO结构为主,具有明确的成分调制结构,各Ti层和各ZnO层厚度均匀连续,各界面平整且无明显扩散.在可见光范围的平均透光率大于85%,电阻率最小可达到2.63×10-2Ω·cm.

磁控溅射;(Ti/ZnO)N;调制周期数;透光率;电性能

50

TB383.2(工程材料学)

中国科学院苏州纳米技术与仿生研究所纳米器件与应用重点实验室项目15QT02

2021-09-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共7页

1478-1484

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1000-985X

11-2637/O7

50

2021,50(8)

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