PVT法AlN单晶生长技术研究进展及其面临挑战

摘要：

氮化铝(AlN)具有超宽禁带宽度(6.2 eV)、高热导率(340 W/(m·℃))、高击穿场强(11.7 MV/cm)、良好的紫外透过率、高化学和热稳定性等优异性能,是氮化镓基(GaN)高温、高频、高功率电子器件以及高Al组分深紫外光电器件的理想衬底材料.物理气相传输(PVT)法是制备大尺寸高质量AlN单晶最有前途的方法.本文介绍了AlN单晶的晶体结构、基本性质及PVT法生长AlN晶体的原理与生长习性.基于AlN单晶PVT生长策略,综述了自发形核工艺、同质外延工艺及异质外延工艺的研究历程,各生长策略的优缺点及其最新进展.最后对PVT法生长AlN单晶的发展趋势及其面临的挑战进行了简要展望.

关键词：AlN单晶、PVT、自发形核生长、同质外延生长、异质外延生长

所属期刊栏目：49

分类号：O78(晶体生长)

在线出版日期：2020-08-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共16页

页码：1141-1156