射频磁控溅射不锈钢衬底AlN薄膜的制备与特性研究

摘要：

利用正交实验设计方法,采用射频磁控溅射法在不锈钢衬底上制备了AlN薄膜,并利用XRD、激光拉曼光谱、荧光光谱等技术对AlN薄膜的结构及发光特性进行了表征.通过实验数据分析,得出如下结论:利用射频磁控溅射法在不锈钢衬底上制备的纤锌矿结构AlN薄膜,在所有参数下,(100)面最易生长;在溅射功率为300～400 W、衬底温度为100～200 ℃、氮气流量百分比为30％、溅射时间为1 h时,制备出的AlN薄膜结晶状况较好.制备出的AlN薄膜没有明显的拉曼峰,但不锈钢衬底不仅有拉曼峰,而巨在紫外区有很强的荧光发射峰.在不锈钢上镀膜后,拉曼峰的强度有所变化并巨伴随着频移.

关键词：AlN薄膜、射频磁控溅射、XRD、荧光光谱、拉曼光谱

所属期刊栏目：48

分类号：TB383(工程材料学)

在线出版日期：2020-03-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：2201-2206