化学气相沉积(CVD)工艺对ZnS力学性能影响的研究

摘要：

介绍了化学气相沉积法(CVD)制备ZnS过程中,CVD工艺对材料相关力学性能的影响和控制方法.通过X射线衍射分析、扫描电镜和金相显微镜等手段研究了不同工艺下制备的ZnS样品材料的内部结构和缺陷,提出了ZnS生长过程中晶粒尺寸和材料缺陷的控制方法.研究结果表明,设计合理的喷嘴结构,营造稳定的CVD生长环境,提高CVD ZnS毛坯一致性,抑制材料缺陷形成,有助于提升ZnS材料力学相关性能.

关键词：化学气相沉积法(CVD)、晶粒尺寸、喷射结构、力学性能

所属期刊栏目：48

分类号：TN213(光电子技术、激光技术)

资助基金：军工资助项目

在线出版日期：2019-10-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：1430-1437