10.3969/j.issn.1000-985X.2019.02.028
泡沫镍衬底上生长二氧化锡纳米线的生长行为及光致发光性能研究
采用热蒸发法,在镀有Au(金)的多孔泡沫镍基底上生长了SnO2纳米线,生长温度分别为750℃、800℃和850℃,分别利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)研究了生长温度对纳米线生长行为的影响,采用X射线光电子能谱仪(XPS)研究了样品的元素结合态,采用荧光光谱仪研究了样品的室温光致发光(PL)性能.结果证明,生长温度对SnO2纳米线形貌、尺寸、密度等形态学特征影响显著.在750℃下,SnO2为颗粒状;800℃生成了较高密度的SnO2纳米线,且随温度升高纳米线产量增加、直径显著增大;在850℃下其直径增大至微米级.对室温光致发光性能的研究发现,随生长温度升高,在SnO2产量增加和氧缺陷浓度的提高的共同作用下,导致其发光性能随之显著提高.
SnO2纳米线、生长温度、生长行为、泡沫镍
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O782+.7(晶体生长)
陕西省自然科学基础研究计划资助项目2017JQ5018;中央高校基本科研业务费专项资金310831161016;西安交通大学金属材料强度国家重点实验室开放课题20161809
2019-04-24(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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