10.3969/j.issn.1000-985X.2019.01.011
高品质光学级单面生长石英晶体的生长技术研究
采用水热温差法,研发了一种高品质光学级单面生长石英晶体技术,分析了光学级石英晶体单面生长原理和关键技术,并对所制备的光学级单面生长石英晶体的性能进行了测试与表征.研究结果表明:采用单面生长技术能极大地减少石英晶体内部缺陷,制备出的石英晶体具有极高的品质,其中包裹体指标、条纹指标达和光学均匀性分别达到国家标准GB/T7895-2008中的Ia级、1级和A级,达到了目前国家标准中的顶尖水平.
石英晶体、生长工艺、单面生长
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O484(固体物理学)
国家重点研发计划2016YFB0401305;青山湖科技城创新载体建设项目
2019-03-21(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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