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10.3969/j.issn.1000-985X.2018.07.003

GaN的MOVPE生长中台阶表面吸附的 量子化学计算

引用
利用量子化学的密度泛函理论,计算GaN的MOVPE生长中主要的表面反应前体NH3、GaCH3(简写为MMG)在GaN(0001)面台阶处的吸附特性,并与理想平台表面对比.结果表明,在台阶吸附时,NH3有分子吸附和分解吸附两种结构,MMG只有两种分子吸附结构.NH3分子吸附时,吸附能在台阶处大于在平台表面;NH3分解吸附时,吸附能在平台表面大于在台阶处.说明NH3在台阶处容易发生分子吸附,而在平台表面容易发生分解吸附.MMG在台阶处的吸附能均大于在平台表面,说明它们在台阶处吸附比理想表面更容易.

GaN、密度泛函理论、表面反应、台阶吸附

47

TN304(半导体技术)

国家自然科学基金61474058

2018-09-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

1312-1317

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1000-985X

11-2637/O7

47

2018,47(7)

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