插层法制备g-C3N4/高岭石复合材料及其光学性能

摘要：

高岭石表面与层间具有较高的活性和良好的规范性,因而适合对其进行化学修饰,在催化剂负载方面值得深入研究.本文以甲氧基嫁接的高岭石为前躯体,采用置换插层法制备出高岭石/三聚氰胺插层复合物,进一步在550 ℃煅烧获得g-C3N4/高岭石复合光催化剂.利用X射线衍射、傅里叶红外和热重-差热分析等手段对复合光催化材料进行表征,并对其光催化性能进行研究.结果表明,当高岭石与光催化剂前驱体三聚氰胺质量比为1∶1和1∶2时,较难缩聚得到g-C3N4;然而,当高岭石与三聚氰胺质量比为1∶3、1∶4、1∶5时,可获得不同g-C3N4占比的复合材料,其整体分散状况因高岭石的加入而有效改善,这表明高岭石的加入能有效避免g-C3N4的团聚.所制备的高岭石负载石墨相氮化碳光催化材料具有较好的光学性能,在探索经济、高效、绿色矿物基复合光催化剂方面研究具有重要意义.

关键词：高岭石、g-C3N4、插层法、结构、光催化性能

所属期刊栏目：46

分类号：X703(一般性问题)

资助基金：国家自然科学基金41602171;北京市自然科学基金8164062;北京市科技新星计划2015B081

在线出版日期：2017-08-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1258-1262,1266