微/纳米CVD金刚石涂层沉积工艺参数优化
通过正交实验设计工艺参数,利用热丝化学气相沉积法(HFCVD)制备金刚石涂层,采用扫描电镜、洛氏硬度计、X射线衍射仪等对金刚石涂层进行性能表征,同时进行切削试验,从而确定微米层和纳米层最佳的碳源浓度、沉积气压、热丝与基体间距.结果表明:最优微米金刚石涂层沉积工艺参数为碳源浓度2%,沉积气压3 kPa,热丝/基体间距5 mm.最优纳米金刚石涂层沉积工艺参数为碳源浓度5%,沉积气压5 kPa,热丝/基体间距8 mm.
碳源浓度、沉积气压、热丝与基体间距
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O781(晶体生长)
国家自然科学基金51172278;北京市自然科学基金15L00025;北京教委科技成果转化项目2010-583
2017-07-12(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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890-896