激发功率密度和阱层厚度对极化InGaN/GaN多量子阱光致发光性能的影响

摘要：

用MOCVD技术在c面蓝宝石衬底上生长了具有不同阱层厚度的InGaN/GaN多量子阱结构,研究了阱层厚度和激发功率密度对多量子阱光致发光(PL)性能的影响.结果表明,随着激发功率密度的增加,PL的峰值波长会出现不同程度的蓝移,且阱层越厚,蓝移的越明显.PL的峰值波长随着激发功率密度和阱厚的变化关系可以用光生载流子对极化场的屏蔽效应和带隙填充效应来解释.阱最薄的样品(1.8 nm)由于其极化效应最弱,电致发光谱具有最高的发光强度,但其发光波长较短仅有430 nm.

关键词：阱厚、激发功率密度、峰值波长、极化效应、带隙填充

所属期刊栏目：46

分类号：TN383+.1;TN364+.2(半导体技术)

在线出版日期：2017-04-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：385-392