CVD金刚石化学机械抛光工艺研究

摘要：

本文提出采用化学机械抛光的新工艺实现传统方法无法达到的超光滑、低损伤的表面抛光.本文在对金刚石氧化的化学热动力学研究基础上,配制了以高铁酸钾为主要氧化剂的化学机械抛光液,指出加快化学机械抛光过程金刚石氧化的工艺措施.研制了用于CVD金刚石化学机械抛光的可加热抛光头和摩擦力测量装置,着重研究了CVD金刚石的化学机械抛光工艺.试验得到最佳的抛光工艺参数:抛光压力为266.7 kPa,抛光盘转速为70 r/min,抛光头转速为23 r/min,抛光温度为50℃.化学机械抛光的摩擦系数在0.060 ～0.065范围内变化,为混合润滑状态.

关键词：CVD金刚石、化学机械抛光、工艺、高铁酸钾

所属期刊栏目：45

分类号：TH161

资助基金：国家自然科学基金51305278;教育部博士点基金20132102120006;国家博士后基金2014M551124

在线出版日期：2016-11-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：73-79