金刚石的射频喷射等离子体化学气相沉积及其Ni-N掺杂的研究

摘要：

对自行设计的RF喷射等离子体增强化学气相沉积系统(RF plasma jet CVD)进行了电子温度和电子密度的模拟计算分析.在优化的参数下进行了金刚石膜体的制备,并应用光发射谱技术(OES)在线分析了等离子体的成分.通过Raman、XRD和SEM分析了沉积样品的成分、晶体结构和形貌.通过在反应气体中加入NH3,并利用载气技术将含有Ni元素的金属有机物引入到沉积区,进行了Ni、N共掺杂沉积.利用XPS以及PL谱分析了掺杂样品的化学价键和光致发光特性,结果发现Ni-N价键的存在以及在800 nm附近的光发射峰.

关键词：化学气相沉积、射频喷射等离子体、金刚石、Ni-N掺杂

所属期刊栏目：44

分类号：O482.31(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金51272281;中科院百人计划和中科院装备研制项目yz201356

在线出版日期：2016-10-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：2670-2678