微波等离子体下GaN的分解与纳米金刚石膜的沉积
采用微波等离子体化学气相沉积(microwave plasma chemical vapor deposition,MPCVD)技术系统地研究了GaN的分解机制.结果表明微波等离子体富氢环境促进了GaN的分解反应,分解过程由表面缺陷开始,向侧面扩展,最后沿氮极性面进行;氢等离子体中通入少量氮气能够显著抑制GaN的分解,在此基础上采用两步生长法成功实现在GaN上纳米金刚石膜的直接沉积.
氮化镓、分解、微波等离子体化学气相沉积、纳米金刚石膜
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TG174.4;TB34(金属学与热处理)
国家自然科学基金51272024;中国博士后科学基金2014M550022;中央高校基本科研业务费FRF-TP-14-042A1;国家自然科学基金51402013
2016-10-11(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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