选择氧化法制备核壳NiSi/SiO2纳米颗粒及磁学性能研究

摘要：

采用选择氧化法首次制备具有核壳结构的NiSi/SiO2纳米颗粒.通过SEM,TEM,EDX,XRD和VSM等测试手段对材料进行表征.结果表明,用上述方法制备得到的NiSi/SiO2纳米颗粒直径在40～200 nm之间,SiO2壳层厚度约为20 nm.基于选择氧化、结晶和热力学理论对SiO2壳层结构的形成机理进行了阐释.制备得到的NiSi/SiO2纳米颗粒在室温下显示出超顺磁性.

关键词：选择氧化、核壳结构、NiSi/SiO2纳米颗粒、磁学性能

所属期刊栏目：43

分类号：O469(真空电子学（电子物理学）)

资助基金：National Natural Science Foundation of China11104126

在线出版日期：2016-10-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：2366-2371