高温垂直Bridgman法生长Zn1-xMgxTe晶体
采用高温垂直Bridgman法,以ZnTe(5N)、Mg(5N)和Te(7N)为初始原料,在高温下成功生长出了尺寸为φ15mm×50 mm的Zn1-xMgxTe晶体.分别采用X射线衍射、紫外可见分光光度计和红外光谱仪研究了晶体的结构及光学性质,通过PL谱和化学腐蚀的方法分析了晶体的结晶质量.结果表明:所生长的晶体具有立方相结构,晶格常数为0.61585 nm,略大于ZnTe晶格常数,晶锭中质量最好部分的晶片红外和紫外透过率接近60%,室温下其禁带宽度约为2.37 eV.77 K温度下,PL谱中存在A和B两个主要的发光带,位错腐蚀坑密度在105 cm-2数量级.
高温垂直Bridgman法、Zn1-xMgxTe晶体、透过率、腐蚀坑密度
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TN304.2(半导体技术)
国家自然科学基金51072164
2016-10-11(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
727-732