单晶硅表面制绒及其特性研究

摘要：

研究了在不同的碱液(NaOH,Na2CO3,NaHCO3,Na2 SiO3,Ca(OH)2,CH3 COONa)和异丙醇(IPA)制绒下单晶硅表面金字塔结构的变化情况,使用分光光度计测量了不同结构表面的反射率变化.结果表明,金字塔绒面的表面反射率与金字塔结构及大小分布情况有关,实验中获得的最低表面反射率为7.8％.金字塔结构断面SEM图显示金字塔顶角在断面上的投影角度不会随反应条件和金字塔大小改变,维持在80°左右.最后,通过制绒后硅片表面金字塔形貌的扫描电镜图样和反射率的分析,提出了织构率α的概念,得到了快速了解单晶硅表面金字塔覆盖率的方法.

关键词：单晶硅、陷光结构、织构率、反射率

所属期刊栏目：43

分类号：TK514;TM914.4(特殊热能及其机械)

资助基金：国家重点基础研究发展计划973计划2012CB934201;国家高技术研究发展计划863计划2011AA050513;中央高校基本科研业务费专项资金65012001

在线出版日期：2016-10-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：308-313