用于HIT太阳能电池的ITO薄膜制备与性能研究
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

用于HIT太阳能电池的ITO薄膜制备与性能研究

引用
采用中频脉冲磁控溅射工艺制备ITO薄膜,研究了衬底温度和溅射功率对薄膜性能的影响.通过对二者的优化,获得了方阻为2.99Ω/□,电阻率为1.76×10-4Ω·cm,可见光波段(400~800 nm)平均透过率为82.3%的ITO薄膜.将优化后的薄膜用于电池上,制出了转化效率为14.04%的HIT太阳能电池.

ITO薄膜、衬底温度、溅射功率、HIT太阳能电池

42

O484(固体物理学)

天津市自然科学基金10JCYBJC03000

2016-10-11(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

2002-2006,2012

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

人工晶体学报

1000-985X

11-2637/O7

42

2013,42(10)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn