磁控溅射参数对(Ba,Sr)TiO3薄膜择优取向生长的影响

摘要：

采用磁控溅射法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备了(Ba,Sr)TiO3薄膜.基于薄膜的形核理论,研究了溅射气压、靶基距、衬底温度和溅射功率等溅射参数对(Ba,Sr) TiO3薄膜择优取向生长的影响.实验结果表明:磁控溅射中,较高衬底温度(600℃)有助于钙钛矿成相；通过改变磁控溅射参数,能得到(111)、(001)、(110)择优取向的薄膜.

关键词：BST、择优取向、磁控溅射、形核

所属期刊栏目：42

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金60971008

在线出版日期：2016-10-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：52-57