Ni2+对KDP晶体生长及缺陷影响的研究

摘要：

采用传统降温方法生长了不同Ni2+掺杂浓度的KDP晶体.实验发现当Ni2+掺杂浓度小于1000 ppm时溶液的稳定性随着掺杂浓度的增加而提高,大于1000 ppm时溶液的稳定性开始下降,但仍高于纯态溶液的稳定性；随着Ni2+浓度的增加KDP晶体柱面的生长死区增加,柱面的生长速度略有下降,但在生长过程中没有观察到晶体的楔化；KDP晶体的XRD分析及缺陷的研究表明Ni2+对晶体的结构影响不明显,但晶体中的缺陷和内应力增加.

关键词：KDP晶体、溶液稳定性、缺陷、内应力

所属期刊栏目：41

分类号：O781(晶体生长)

资助基金：高等学校博士学科点专项科研基金资助课题20090131120035;山东大学自主创新基金资助2010TS067

在线出版日期：2013-01-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1153-1157