射频磁控溅射制备纳米TiO2薄膜的表征和亲水性能
采用射频磁控溅射TiO2陶瓷靶的方法在硅和石英衬底上制备纳米TiO2薄膜,并经950℃退火1h.通过X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、紫外可见光谱(UV-Vis)和接触角仪对薄膜相结构、表面形貌、光学性能和亲水性能进行表征.结果表明,与950℃退火1h相比,未退火薄膜是无定形结构并呈现较高的光致亲水性能.退火薄膜是锐钛矿和金红石混合相,其中锐钛矿相质量分数是11.34％.未退火和950℃退火1h的薄膜样品的能隙分别是3.03 eV和3.11 eV.未退火薄膜具有较高的光致亲水性能主要归因于其较低的光学能隙.退火薄膜的热致亲水性能与其相结构、表面清洁度和粗糙度有关.
射频磁控溅射、TiO2薄膜、光学性能、亲水性能
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O484.1(固体物理学)
安徽省自然科学基金1208085ME81;安徽省高等学校省级自然科研基金KJ2011A010,KJ2012A029;三束材料改性教育部重点实验室大连理工大学开放基金DPI051002;安徽省高等学校省级教学研究项目20100185;安徽大学211工程三期教学质量工程项目39020012,xj201140;安徽大学“质量工程”建设基金XJ200907;安徽大学学术创新团队建设项目KJTD004B;安徽大学博士科研启动基金
2012-10-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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