一种新颖的磁控溅射纯Cr薄膜结构区域模型

摘要：

磁控溅射成膜过程中,基于溅射中性原子对基片表面微区的轰击效应Ec11和各种轰击离子对基片微区表面的轰击效应Ec22两个能量因子建立了磁控溅射纯Cr薄膜的结构区域模型,研究发现磁控溅射系统中较高的离子流密度显著影响着薄膜的微观结构,且可在较低的相对温度下促进完全致密薄膜结构的形成.

关键词：轰击能量、微观结构、磁控溅射、结构区域模型

所属期刊栏目：40

分类号：TK124(热力工程、热机)

资助基金：陕西省重点学科建设专项基金;西安理工大学优秀博士学位论文研究基金101-210905

在线出版日期：2012-01-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1071-1075,1082